產品詳情
西安蔡司西安X射線顯微鏡Versa憑借優異的大工作距離高分辨率(RaaD)的特性,成為了全球優秀研究人員和科學家的“有力幫手”。在(zai)相(xiang)對(dui)大(da)工(gong)作(zuo)距(ju)離(li)下(xia)也(ye)能(neng)保(bao)持(chi)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv),有(you)助(zhu)於(yu)產(chan)生(sheng)意(yi)義(yi)非(fei)凡(fan)的(de)科(ke)學(xue)見(jian)解(jie)和(he)發(fa)現(xian)。隨(sui)著(zhe)當(dang)今(jin)技(ji)術(shu)的(de)快(kuai)速(su)發(fa)展(zhan),對(dui)分(fen)析(xi)儀(yi)器(qi)也(ye)提(ti)出(chu)了(le)更(geng)高(gao)的(de)要(yao)求(qiu),而(er)蔡(cai)司(si)Xradia 600 Versa係列就是專為應對這一挑戰而設計的。
蔡司X射線顯微鏡Xradia 610 & 620 Versa采用改進的光源和光學技術
X射線計算機斷層掃描成像領域麵臨的兩大挑戰是:實現大尺寸樣品和大工作距離下的高分辨率和高通量成像。蔡司推出的兩款X射線顯微鏡憑借以下優勢解決了這些挑戰:係統可提供高功率的X射線源,顯著提高X射線通量,從而加快了斷層掃描速度。工作效率提高達兩倍,而且不會影響空間分辨率。同時,X射線光源的穩定性得到提升,使用壽命也更長。
主要特性包括:
✔zui高空間分辨率500nm,zui小體素40 nm
✔與蔡司Xradia 500Versa係列相比,工作效率提高兩倍
✔更加簡便易用,包括快速激活源
✔能夠在較大的工作距離下對更廣的樣品類型和尺寸的樣品進行亞微米特征的觀察
更高的分辨率和通量
傳統斷層掃描技術依賴於單一幾何放大,而蔡司X射線顯微鏡Xradia Versa則將采用光學和幾何兩級放大,同時使用可以實現更快亞微米級分辨率的高通量X射線源。大工作距離下高分辨率成像技術(RaaD)能夠對尺寸更大、密度更高的樣品(包括零件和設備)進行無損高分辨率3D成像。此外,可選配的平板探測器技術(FPX)能夠對大體積樣品(重達25 kg)進行快速宏觀掃描,為樣品內部感興趣區域的掃描提供了定位導航。
實現新的自由度
運用業界出色的3D X射線成像解決方案完成前沿的科研與工業研究 :憑借zui大化利用吸收和相位襯度,幫助您識別更豐富的材料信息及特征。運用衍射襯度斷層掃描技術(LabDCT)揭示3Djingtijiegouxinxi。xianjindetuxiangcaijijishukeshixianduidayangpinhuobuguizexingzhuangyangpindegaojingdusaomiao。yunyongjiqixuexisuanfa,bangzhuninjinxingyangpindehouchulihefenge。
優異的4D/原位解決方案
蔡司Xradia 600 Versa係列能夠在可控環境下進行材料3D無損微觀結構表征的動態過程。憑借Xradia Versa在大工作距離下仍可保持高分辨率成像的特性,可將樣品放置到樣品艙室或高精度原位加載裝置中進行高分辨率成像。Versa可與蔡司其它顯微鏡無縫集成,解決多尺度成像方麵的挑戰。
蔡司 Xradia 610 Versa | 蔡司 Xradia 620 Versa | |
空間分辨率a | 500 nm | 500 nm |
大工作距離下的高分辨率 | 1.0 μm | 1.0 μm |
zui小可實現的體素c | 40 nm | 40 nm |
X射線源電壓範圍 | 30–160 kV | 30–160 kV |
X射線源zui大輸出功率 | 25 W | 25 W |
Scout-and-Scan™控製係統 | ✓ | ✓ |
Scout-and-Zoom | ✓ | ✓ |
垂直拚接 | ✓ | ✓ |
XRM Python API | ✓ | ✓ |
自動X射線濾光片轉換器(AFC) | ✓ | |
高縱橫比斷層掃描(HART) | ✓ | |
雙掃描襯度可視化係統(DSCoVer) | ✓ | |
寬場模式 | 0.4x | 0.4x 和 4x |
蔡司LabDCT衍射襯度斷層掃描 | 選配 | |
蔡司自動進樣裝置 | 選配 | 選配 |
原位接口套件 | 選配 | 選配 |
蔡司OptiRecon | 選配 | 選配 |
蔡司ZEN Intellesis | 選配 | 選配 |
ORS Dragonfly Pro | 選配 | 選配 |


