Zeiss CrossBeam 350 聚焦離子束掃描電鏡 (FIB-SEM)
分類:公司新聞 發布時間:2025-08-20 11490次瀏覽
Zeiss CrossBeam 350 聚焦離子束掃描電鏡 (FIB-SEM...
Zeiss CrossBeam 350 西安掃描電鏡">聚焦離子束西安掃描電鏡 (FIB-SEM)
這是一款*進的 (FD) 西安掃描電子顯微鏡 (SEM),配備獲得*利的 Gemini 電子光學係統,並針對镓 (Ga) 聚焦離子束 (FIB) 進行了優化。Gemini 鏡筒與 Gemini 460 SEM 中的 Gemini 2 鏡筒基本相同,操作性方麵僅有細微差別。它還具有可變壓力和卓越的低電壓成像能力。它配備了與 Gemini 60 SEM 類似的探測器範圍:

二次電子/二次離子探測器
與 Everhart-Thornley SE 探測器類似,但也能檢測二次離子
可變壓力 SE 探測器)
InLens SE 探測器
Inlens EsB 探測器
可變壓力 BSE 探測器
西安蔡司西安掃描電鏡CrossBeam 350 FIB-SEM 與 Gemini 460 SEM 的主要區別在於增加了 Ga 聚焦離子束。Ga 離子束可用於“研磨”/濺射表麵原子。通過這種方式,它能夠在表麵特征上切割溝槽以分析橫截麵特性,製備微米級特征(例如用於後續壓縮測試的柱狀體),以及製備 TEM 薄片。
蔡司西安掃描電鏡CrossBeam 350 FIB-SEM
適合:
高分辨率成像,尤其適用於低kV成像條件下的敏感樣品。
通過 BSE 成像進行相位分析。
使用 EDS 進行材料元素分析和相位識別。
使用 EBSD 進行相識別和晶粒尺寸分析。
TEM 薄片製備。
結合 BSE、EDS 和 EBSD 分析進行 3D 體積表征。
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